Photometric Linearization under Near Point Light Sources(Photometric Analysis,<Special Section>Machine Vision Applications)
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概要
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We present a method for classifying image pixels of real images into multiple photometric factors: specular reflection, diffuse reflection, attached shadows and cast shadows. Conventional photometric linearization methods cannot correctly classify pixels under near point light sources, since they assume parallel light. To satisfy this assumption, our method utilizes a photometric linearization method that divides images into small regions. It also propagates linearization coefficients from neighboring regions. Our experimental results show that the proposed method can correctly classify image pixels into photometric factors, even if images are obtained under near point light sources.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-07-01
著者
-
登 一生
パナソニック株式会社先端技術研究所
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登 一生
松下電器
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登 一生
パナソニック株式会社
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SATO Satoshi
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
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TAKATA Kazutoyo
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
-
NOBORI Kunio
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
-
Takata Kazutoyo
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd.
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Sato Satoshi
Matsushita Electric Industrial Co. Ltd.
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