Si細線交差導波路の損失,クロストークを低減するオフセット交差構造の提案(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎,及び一般)
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概要
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Si細線交差導波路の損失,クロストークを低減する新規の交差構造を提案する.2-D FDTD(有限差分時間領域)シミュレーションによって,TEおよびTMモードの解析を行った.オフセット交差構造を最適化することで,交差角20度においてTEモードで損失0.06dB,クロストーク-44.5dB,TMモードで損失0.07dB,クロストーク-49.5dBを得た.またコア幅を最適化することで,偏光無依存な交差を設計することも可能となる.本研究で得られた低損失でコンパクトな交差は,大規模な光スイッチや高密度な光配線に有効である.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-05-15
著者
-
津田 裕之
慶應義塾大学
-
伊熊 雄一郎
慶應義塾大学大学院理工学研究科総合デザイン工学専攻
-
津田 裕之
慶應義塾大学大学院
-
田中 大輝
慶應義塾大学大学院理工学研究科
-
伊熊 雄一郎
慶應義塾大学大学院理工学研究科
-
伊熊 雄一郎
慶應義塾大学大学院
-
田中 大輝
慶應義塾大学
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