高電力下における抵抗皮膜を用いた縦列電波吸収体の温度分布に関する検討(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
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概要
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本研究では,高電力下における電波吸収体の温度上昇低減に関する基礎的検討を行った.具体的には,FDTD法,Semi-Implicit Method for Pressure Linked Equations(SIMPLE)法,モンテカルロ(Monte Carlo)法およびRadiative Energy Absorption Distribution(READ)法をそれぞれ連成することで,電磁界と伝熱現象(熱伝導,対流熱伝達,熱放射)の全てを計算可能な電磁界伝熱連成解析手法を用いて,抵抗皮膜を用いた縦列電波吸収体の温度分布について計算を行った.また,同一の電波吸収体を製作し,これに高出力RF装置を用いて電力を照射した後に,その定常状態後の温度分布を測定した.最後に,解析および実験の両結果を比較検討した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-07-17
著者
-
橋本 修
青山学院大学
-
渡邊 慎也
青山学院大学
-
渡邉 恵理子
青山学院大学 理工学部 電気電子工学科
-
渡辺 恵理子
青山学院大学
-
斉藤 寿文
TDK株式会社 テクニカルセンター
-
栗原 弘
TDK株式会社 テクニカルセンター
-
栗原 弘
Tdk株式会社
-
栗原 弘
Tdk株式会社電波エンジニアリング事業部
-
斉藤 寿文
TDK(株)マグネティクスBGrp電波エンジニアリングBU
-
渡辺 慎也
青山学院大学理工学部
-
斎藤 寿文
Tdk株式会社
-
栗原 弘
TDK-EPC株式会社電波エンジニアリングBU
-
斉藤 寿文
Tdk株式会社
-
渡辺 恵理子
青山学院大学 理工学部 電気電子工学科
-
橋本 修
青山学院大 理工
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