二硫化モリブデン添加によるTiN薄膜の低摩擦化
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概要
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Molybdenum disulfide (MoS_2) was added to TiN films to reduce the friction coefficient of the films. TiN and TiN-MoS_2 thin films were formed by magnetron sputtering. We investigated the crystallinity and chemical bonding states of the TiN-MoS_2 composite thin films by X-ray diffraction (XRD) analysis and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The adhesive strength and friction coefficients of the TiN and TiN-MoS_2 thin films were evaluated by scratch tests and ball-on -disk friction tests, respectively. The scratch tests revealed that the adhesive strength of the TiN-MoS_2 composite thin film was as high as that of the TiN thin film. Moreover, a decrease in the friction coefficients was observed owing to MoS_2 addition in an ambient atmosphere. Therefore, the TiN-MoS_2 composite thin film is thought to be a new candidate for lubricious hard coating.
- 東海大学の論文
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