2908 二硫化モリブデン添加によるTiN薄膜の低摩擦化(J21 表面改質とトライボロジー,2005年度年次大会)
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概要
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In this research, molybdenum disulfide (MoS_2) was added to TiN films in order to reduce the friction coefficient of the films. TiN and TiN-MoS_2 thin films were formed by the magnetron sputtering method. We investigated the crystallinity and the chemical bonding states of TiN-MoS_2 composite thin films by X-ray diffraction method (XRD) and X-ray photoelectron spectroscopy method (XPS). The adhesive strength and the friction coefficients of the TiN and TiN-MoS_2 thin films were evaluated by the scratch tests and the ball on disk friction tests, respectively. The scratch tests revealed that the adhesive strength of TiN-MoS_2 composite thin films was as high as that of TiN thin films. Moreover, the decrease in the friction coefficients by MoS_2 addition was observed in an ambient atmosphere. Therefore, TiN-MoS_2 composite thin film is thought to be a new candidate for lubricious hard coating.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2005-09-18
著者
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