Ti拡散ErドープLiNbO_3導波路の光増幅特性と変調器への応用
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概要
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本研究では,結晶成長段階においてErをドープしたLiNbO_3結晶に対しTi拡散導波路を形成し,光増幅特性評価,および変調実験を行なった.Ti拡散導波路に1480nmの励起光200mW/portを入射時に,1531.4nmで2.1dB/cmの伝搬利得.3.8dBの挿入利得を達成した.また変調デバイスへの応用として共振型電極を形成し,変調器の前後方にFiber Bragg Gratingを設置することによりミリ波形成に有用な往復逓倍変調器を作製した.10GHzの信号光から往復逓倍と光増幅を利用することにより10dB増幅した50GHzの変調光を生成することに成功した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-02-27
著者
-
川西 哲也
情報通信研究機構新世代ネットワーク研究センター
-
品田 聡
情報通信研究機構(NICT)
-
中島 慎也
情報通信研究機構(NICT)
-
中島 啓幾
早稲田大学大学院先進理工学研究科
-
川西 哲也
情報通信研究機構
-
中島 慎也
情報通信研究機構
-
中島 啓幾
早稲田大学先進理工学研究科
-
中島 啓幾
早稲田大学理工学部
-
中島 啓幾
早稲田大学
-
古河原 壮
早稲田大学大学院先進理工学研究科
-
古河原 壮
早稲田大 大学院先進理工学研究科
-
井筒 雅之
情報通信研究機構
-
品田 聡
通信総合研究所
-
古河原 壮
早稲田大学大学院理工学研究科
-
中島 啓幾
早稲田大学大学院 先進理工学研究科
-
品田 聡
情報通信研究機構
-
井筒 雅之
独立行政法人 通信総合研究所
-
品田 聡
(独)情報通信研究機構光ネットワーク研究所
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