マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置のFDTD法解析(電磁界理論技術,光・電波ワークショップ)
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概要
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半導体素子製造の新しい方法であるマイクロ波励起表面波プラズマプロセスでは、印加されるマイクロ波とプラズマの生成、性質についてはまだ完全には解明されておらず、またマイクロ波の波長が装置のサイズと同程度であるため、効率的なプラズマの発生には形状の最適化を要するという問題がある。そこで本研究では、FDTD法にプラズマの運動量輸送方程式を加えてプロセス中のマイクロ波の振舞い及びプラズマの性質を数値的に解析し、より効率的なプロセス装置の設計に役立てるための検討を行ったので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-07-20
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