マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置におけるマイクロ波とプラズマの自己無撞着解析に関する検討(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
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概要
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マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置におけるプラズマが形成される現象を把握すべく,プラズマ中のマイクロ波と電子密度分布を同時に計算する自己無撞着のためのアルゴリズムの検討を行った。実際に用いられた装置形状において真空状態からシミュレーションを開始し,自己無撞着解析により徐々にプラズマを生成させ,最終的に表面波状のプラズマ分布が得られることを確認したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-07-23
著者
-
川口 秀樹
室蘭工業大学
-
松岡 俊佑
旭川工業高等専門学校
-
松岡 俊佑
旭川工業高等専門学校 機械システム工学科
-
西川 崇之
室蘭工業大学
-
畑口 雅人
旭川工業高等専門学校
-
鏡 慎
室蘭工業大学
-
松岡 俊佑
旭川工業高等専門学校機械システム工学科
-
西川 崇之
沖電気工業(株)
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