Fabrication of Pseudocubic SrRuO_3 (100) Epitaxial Thin Films on Si by Pulsed Laser Deposition : Surfaces, Interfaces, and Films
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2002-04-15
著者
-
小池 淳一
東北大
-
樋口 透
東理大理
-
小池 淳一
東北大工
-
SHIMODA Tatsuya
Seiko Epson Corporation
-
SHIMODA Tatsuya
Technology Platform Research Center, Seiko Epson Cooperation
-
Shimoda T
Center For Nano Materials And Technology Japan Advanced Institute Of Science And Technology
-
Shimoda Tatsuya
Technology Platform Research Center Seiko Epson Corporation
-
Shimoda Tatsuya
Seiko Epson Corp. Nagano Jpn
-
HIGUCHI Takamitsu
Technology Platform Research Center, SEIKO EPSON Corporation
-
IWASHITA Setsuya
Technology Platform Research Center, SEIKO EPSON Corporation
-
CHEN Yuxi
Department of Materials Science, Graduate School of Engineering, Tohoku University
-
KOIKEI Junichi
Department of Materials Science, Graduate School of Engineering, Tohoku University
-
ISHIDA Masaya
Technology Platform Research Center, SEIKO EPSON Corporation
-
Ishida Masaya
Technology Platform Research Center Seiko Epson Corporation
-
Chen Yuxi
Department Of Materials Science Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Koikei Junichi
Department Of Materials Science Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Koike Junichi
Department Of Materials Science Graduate School Of Engineering Tohokuuniversity
-
Shimoda Tatsuya
Technology Platform Research Center Seiko Epson Corp.
-
Chen Y
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
Chen Yuxi
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
Chen Y
Department Of Electronics And Information Science Kyoto Institute Of Technology
-
Iwashita Setsuya
Technology Platform Research Center Seiko Epson Corporation
-
Higuchi T
東理大理
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