クロメプロップ代謝物(DMPA)による電解質漏出への活性酸素の関与

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著者らは, 既にクロメプロップ[2-(2,4-dichloro-m-tolyloxy) propionanilide]の活性本体であると推定されているDMPA L2-(2,4-dichloro-m-tolyloxy) propionicacid]をダイコン幼根に処理すると, 根部から電解質漏出と側根の発生阻害が見られるが, それには, 薬剤処理後に発生するエチレンが関与している可能性があることを報告した。本研究では, DMPA処理から電解質漏出までの更に詳しい作用メガニズムを調べることを目的とし, その過程に活性酸素が関与しているかについての検討を各種の活性酸素消去剤を用いて行った。(1) クロメプロップ, DMPA処理はより処理直後から電解質漏出が見られたが, フリーラジカルの消去剤, ^1O_2の消去剤, ・OHの消去剤を前処理することはより軽減された。そしてそれは^1O_2の消去剤の前処理でりより効果が高かった(Fig. 1-3)。(2) DMPA処理により処理直後から側根の発生阻害も観察されたが, フリーラジカルの消去剤, ^1O_2の消去剤を前処理することにより軽減した(Fig. 4-5)。(3) フリーラジカルの消去剤, ^1O_2の消去剤の前処理は, DMPA処理後のエチレン放出量にほとんど影響しなかった(Fig. 6)。(4) フリーラジカルの消去剤, ^1O_2の消去剤の前処理によめDMPA処理後の過酸化脂質量が減少した(Fig.7)。以上の結果より, DMPA処理後に起こる電解質漏出や側根の発生阻害には, 活性酸素(特に^1O_2)が関与している可能性が示唆された。また, その活性酸素はエチレン生成量を増大させることによって2次的に電解質漏出や側根の発生阻害に関与しているのではなく, 独自にそれらに寄与している可能性が考えられる。
日本雑草学会の論文
1998-02-06

クロメプロップ代謝物(DMPA)による電解質漏出への活性酸素の関与

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