Spectroscopic Ellipsometry of SIMOX (Separation by Implanted Oxygen): Thickness Distribution of Buried Oxide and Optical Properties of Top-Si Layer
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1997-05-15
著者
-
山口 剛士
鳥取大学農学部附属鳥由来人獣共通感染症疫学研究センター
-
YAMAGUCHI Tomuo
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
-
AOYAMA Mitsuru
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
-
Yamaguchi Taichi
Superconductivity Research Dept. Material Research Lab. Fujikura Ltd. :(present Address)quality Assu
-
Aoyama Mitsuru
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Yamaguchi Tomuo
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Yamaguchi T
Toshiba Corp. Yokohama Jpn
-
Nasu Masahiro
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
JAYATISSA Ahalapitiya
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
-
Jayatissa A
Research Institute Of Electronics Shizuoka University:(present Address)advanced Materials And Device
-
Jayatissa Ahalapitiya
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Aoyama M
Japan Atomic Energy Agency
-
Aoyama Makoto
Advanced Photon Research Center Kansai Research Establishment Japan Atomic Energy Research Institute
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