高周波磁気記録の数値解析法
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
磁気記録の大きな流れに「高記録密度化」があるが、今後進むべきもう一つの大きな流れとして「高周波化」がある。数100MHzを越える高周波での磁気ヘッドの特性解析においては、従来の磁場のみに着目した解析では不十分で、導体間、線路間の容量などにも着目した電磁場解析を行う必要がある。本報告では、有限要素法(FEM : Finite Element Method)、FDTD(Finite Difference Time Domain)法を中心に、高周波解析の原理、磁気ヘッドへの適用例、問題点について議論する。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1998-10-15
著者
-
田邉 信二
三菱電機(株)材料デバイス研究所
-
田邊 信二
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
田邉 信二
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
田邉 信二
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
田邉 信二
三菱電機(株)
関連論文
- FMラジオ帯における連携解析を用いた自動車車室内の電磁界分布の検討及びEMI設計への応用(電磁環境・EMC)
- 厚い軟磁性膜の磁区構造
- Si-MMIC用GHz帯磁性薄膜インダクタの低損失化
- Fe-Al-Oグラニュラ膜の微細パターン化による磁気特性の制御
- 携帯機器用GHz駆動薄膜インダクタの試作
- Si-MMIC用GHz帯磁性薄膜インダクタの低損失化
- Fe-Al-Oグラニュラ膜の微細加工による磁気特性の制御
- Fe-Al-Oグラニュラー膜の微細パターン化による磁気特性の制御と薄膜インダクタへの適用
- Si-MMIC用薄膜インダクタにおける磁性膜の異方性制御と低損失化
- 携帯機器用GHz駆動磁性薄膜インダクタ
- グラニュラー高電気抵抗膜の磁気異方性と高周波損失
- RF集積化インダクタの漂遊容量
- 二方向マイクロパターン化磁性膜を用いたRF集積化インダクタ
- RF集積化インダクタの漂遊容量
- 二方向パターン化膜を用いたRF集積化インダクタ
- RF集積化インダクタ用CoNbZr膜の微細寸法設計
- RF集積化インダクタにおける二方向マイクロパターン化膜の効果
- CoNbZr薄膜を用いたGHz帯薄膜インダクタ
- 磁性膜の微細パターン化による磁気異方性の制御
- 微細パターン化磁性膜と平坦化処理プロセスを適用したRF集積化インダクタ
- RF磁性薄膜インダクタの等価回路計算
- CoNbZr薄膜を用いたGHz帯薄膜インダクタ
- 微細パターン化による磁性膜の高周波磁気特性の制御
- 高電気抵抗グラニュラ膜の微細パターン化とそのGHzインダクタへの適用
- GHz帯薄膜インダクタの基本特性に関する有限要素法シミュレーション
- RF集積化磁性薄膜インダクタの非線形性
- B-6-88 BGAコネクタを用いた10Gbpsバックボード信号伝送(B-6. ネットワークシステム)
- CRT用新シャーシと自動消磁コイル(Asia Display '95)
- CRTフレームの着磁とランディングずれの解析
- 高速電力線通信における伝送特性シミュレーション
- EMCと磁気応用V : 今後の展望
- 電力変換回路からの電磁ノイズ発生メカニズムと抑制技術 (特集1 パワーエレクトロニクス技術)
- バックボードを用いた10Gbit/s高速基板間シリアル信号伝送(ギガビット高速信号伝送技術)(最近の半導体パッケージと高速伝送・高周波実装技術論文特集)
- パワエレ素子応用によるスイッチング障害
- FM帯域におけるエンジンコントロールユニットのEMI解析 (特集 クルマ社会をささえる先進技術)
- FDTD-SPICEを用いた電磁場 : 回路融合解析
- FDTD-SPICEを用いた電磁場 : 回路融合解析
- TB-1-5 電磁ファントムの海外における動向
- 体内電磁場の測定標準と国際的な研究の枠組み
- EMCJ2000-32 自動車の構造を考慮した車室内の不要電磁場分布に関する検討
- FDTD法による磁気記録ヘッドの過渡応答解析(コンピュータシミュレーション及び一般)
- B-4-28 ヘリカルアンテナの電磁放射によるSARの検討
- 高周波磁気デバイスの磁場解析技術の進展とその応用
- 高周波磁気記録の数値解析法
- 高周波対応記録ヘッドの3次元有限要素法解析
- 高周波電磁場のシールド特性の解析と考察
- PLC(高速電力線通信)の技術動向と将来