ストライプ形状軟磁性薄膜の透磁率
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概要
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垂直磁気記録用単磁極ヘッドにおいて高分解能化を図るには、微小な磁極形状で高い透磁率を有する軟磁性材料が必要である。膜厚が60nm以下のいくつかの軟磁性材料について、単層膜と二層膜における、ストライプの幅を数100μmから1μmまで狭くしたときの透磁率について調べた。幅の狭い単層膜のストライプでは、膜厚が薄く、膜の飽和磁化が小さいほど高い透磁率を示した。二層膜ではストライプ幅に対して透磁率が変動する傾向が見られ、狭い幅では磁化が部分的に応答している現象が認められた。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1995-06-16
著者
-
伊勢 和幸
秋田県産業技術総合研究センター
-
高橋 慎吾
秋田県産業技術総合研究センター
-
本多 直樹
AIT(秋田県高度技術研究所)
-
大内 一弘
AIT(秋田県高度技術研究所)
-
伊勢 和幸
AIT(秋田県高度技術研究所)
-
高橋 慎吾
AIT(秋田県高度技術研究所)
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