Co-Crスパッタ膜媒体作製の新しい試み : 第4回日韓磁気記録シンポジウム : 画像情報記録
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概要
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最近報告したCo-Cr膜媒体の新しいスパッタ作製法を紹介する。50Pa以上の高Ar圧カスパッタリングでは放電電圧が300V以下の安定な放電が可能である。また、良好な結晶配向を持つTi下地膜を用いると、50Pa以上の高Ar圧力スパッタ堆積でも△θ_<50>が5°程度の高い結晶配向を示すCo-Cr膜が得られる。この膜は粒界が明瞭で微細な柱状構造を持ち、低ノイズな高記録密度媒体としての可能性がある。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1993-11-11
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