真空蒸着法で作製した高抗磁力 Co/Pd 人工格子膜
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概要
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真空蒸着法によりCo/Pd人工格子膜を作製し、その垂直磁気記録媒体への応用を検討した。カバーガラス基板上に、Co、Pd層の膜厚をそれぞれ0.4nm、0.8nmとして作製したCo/Pd人工格子膜で大きな垂直磁気異方性が得られた。高抗磁力を得るために数種類の下地層の効果を調べた。その結果、基板温度200℃で蒸着したTi (100nm)/Pd(25nm)下地層の場合、2400 Oeの高い垂直抗磁力が得られた。また、試料とガラス基板間の接着力もこの下地層の使用により大幅に向上した。さらに、ガラスディスク基板上にCo/Pd人工格子膜を作製し、リングヘッドを用いて高い記録特性が得られることを確認した。
- 1995-11-23
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