線形周期変化パターンの投影を用いた平面までの距離計測
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概要
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物体までの距離や姿勢情報得る方法の一つとして点光源照明やスリット光などの構造化された照明を用いた光投影法がある.同心円,又は格子状などの構造化パターン光を用いた場合,対象が特徴点の少ない平面でもパターンの像が面上の特徴点となる利点がある.一般に平面上へ投影されたパターンの像は平面までや距離や光軸に対する平面の傾斜角によって変形する.この変形は光源・カメラ平面の位置関係によって決定されるのでパターンの変形量を求めることで平面までの距離や傾きに関する拘束条件が得られる.本研究では拡大自己相似な同心円状のパターンを対象平面に投影する.そして計測の対象とする平面上のパターン像と投影パターンの大きさを比較することで平面までの距離を推定する.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-09-18
著者
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