スパッタリング法によるMo/MoO_xブラックマトリクスの作製と特性
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概要
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無公害で低コストのTFT-LCD用ブラックマトリクス材料として, スパッタリング法でMo/MoO_x膜を作製した.この論文では, Mo/MoO_xの着膜条件と結晶構造, 化学組成, 光学特性, エッチング特性について検討した.更に低反射ブラックマトリクスの作製条件の最適化を図り, 12.1型SVGA TFT-LCDに適用した結果について述べる.また, 他のブラックマトリクス材料との比較について示した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-08-25
著者
-
青木 茂雄
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部
-
川崎 誠
ジオマテック株式会社
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西村 和久
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部
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鵜飼 育弘
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部
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鵜飼 育弘
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社r&d
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鵜飼 育弘
ホシデン・フイリップス・ディスプレイ株式会社r&d
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青木 茂雄
日立製作所日立総合病院
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