Mo/MoO_x膜の作製条件と光学特性
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概要
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スパッタリング法によるMo/MoO_x膜の光学特性, エッチング特性および他のブラックマトリクス材料との比較について示し, Mo/MoO_xが無公害で低コスト化の材料として有用であることを明らかにした.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-25
著者
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青木 茂雄
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部
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川崎 誠
ジオマテック株式会社
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西村 和久
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部
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鵜飼 育弘
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部
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鵜飼 育弘
ホシデン株式会社開発技術研究所
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西村 和久
ホシデン株式会社開発技術研究所
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青木 茂雄
ホシデン株式会社開発技術研究所
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鵜飼 育弘
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社r&d
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鵜飼 育弘
ホシデン株式会社
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鵜飼 育弘
ホシデン・フイリップス・ディスプレイ株式会社r&d
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青木 茂雄
日立製作所日立総合病院
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