西村 和久 | ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部

スポンサーリンク

概要

• 西村 和久の詳細を見る
• 同名の論文著者
• ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部の論文著者

関連著者

• 西村 和久

  ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部

• 鵜飼 育弘

  ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部

• 鵜飼 育弘

  ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社r&d

• 鵜飼 育弘

  ホシデン・フイリップス・ディスプレイ株式会社r&d

• 青木 茂雄

  ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部

• 川崎 誠

  ジオマテック株式会社

• 青木 茂雄

  日立製作所日立総合病院

• 井川 昭彦

  ヘキストジャパン株式会社

• 鵜飼 育弘

  ホシデン株式会社開発技術研究所

• 西村 和久

  ホシデン株式会社開発技術研究所

• 青木 茂雄

  ホシデン株式会社開発技術研究所

• 鵜飼 育弘

  ホシデン株式会社

もっと見る 閉じる

著作論文

• スパッタリング法によるMo/MoO_xブラックマトリクスの作製と特性
• リバース転写法によるレジスト塗布のTFT工程への適用
• リバース転写法によるレジスト塗布のTFT工程への適用
• Mo/MoO_x膜の作製条件と光学特性
• Mo/MoO_x膜の作製条件と光学特性

スポンサーリンク