リバース転写法によるレジスト塗布のTFT工程への適用
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概要
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ホトレジストの主成分や添加剤のリバース転写法による塗布特性に及ぼす影響について調べ, それに適したホトレジスト剤を明らかにした. そして, TFT工程へのリバース転写式コータの適用により, 投資生産性の向上やランニングコストの低減が図れた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-06-25
著者
-
西村 和久
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部
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井川 昭彦
ヘキストジャパン株式会社
-
鵜飼 育弘
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社研究部
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鵜飼 育弘
ホシデン・フィリップス・ディスプレイ株式会社r&d
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鵜飼 育弘
ホシデン・フイリップス・ディスプレイ株式会社r&d
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