反射電子線トモグラフィによる磁界再構成
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概要
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高密度化の進む磁気記録において,磁気ヘッドのギャップ近傍における磁界の3次元分布形状を精度よく実測できる有効な方法の開発が重要な課題となっている.我々は,磁界分布の3次元計測法として,透過形電子線トモグラフィによる3次元磁界分布再構成法について研究を進めてきており,実際に磁気ヘッドの漏れ磁界分布の計測を試み,数千ガウスの磁界でも10%以下の誤差で再構成可能であることを示してきた.しかし,透過形電子線トモグラフィでは,磁気ヘッド直前の磁界分布を計測する場合,強磁界のため電子線が大きく偏向して試料に衝突するため,磁界分布を測定することが不可能となる問題があった.そこで,磁気ヘッド表面に対して垂直に電子線を入射し,磁気ヘッド表面で反射した後の偏向量から磁気ヘッド直前の磁界分布計測を可能にする反射形電子線トモグラフィを提案する.理論的に磁界分布が既知であるワンターンコイルをモデルとしたコンピュータシミュレーションにより,本計測手法を用いて誤差20%程度でコイル直前の磁界分布が計測可能であることを示す.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-01-25
著者
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