多値光記録用複屈折膜への微小ピットの形成と原理の実証
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概要
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現在の光ディスクではピットの有無による2値記録方式が用いられている.しかし, ピットの微細化とトラック密度の高密度化が極限に達した段階では, 更なる大容量化, 高密度化には, 多値記録方式による単位ピットあたりの符号効率を上げるしかない.そこで本研究では, 光波の電磁波としての性質である位相に注目し, 高複屈折膜である液晶性高分子膜(複屈折率0.20%)に形成したピットの深さ(=液晶膜の膜厚)を変化させることによって, 一つのピットに多値の位相情報を記録する多値光ディスクの大容量化を目指している.フォトリングラフィー法により液晶性高分子膜上に最小幅1μmのピットの製作を行ない, ドライエッチングでピット内の液晶性高分子膜の厚さを変化させて微小ピットでの多値光記録の原理を実証した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-10-05
著者
-
國分 泰雄
横浜国立大学大学院工学研究院
-
中島 久雄
横浜国立大学大学院工学府物理情報工学専攻:(現)富士通(株)
-
國分 泰雄
横浜国立大学 大学院工学研究院
-
生岩 寛史
横浜国立大学大学院工学研究院
-
正木 明
日石三菱株式会社 中央技術研究所 情報化学材料グループ
-
豊岡 武裕
日石三菱株式会社 中央技術研究所 情報化学材料グループ
-
正木 明
日石三菱(株)中央技術研究所
-
豊岡 武裕
日石三菱株式会社中央技術研究所情報化学材料グループ
-
國分 泰雄
横浜国立大学
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