TEOS低温プラズマCVDによる石英PLCカプラの開発

概要

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TEOSを用いた低温プラズマCVD法とRIEエッチング法を用いて低速光加入者用石英PLC (平面光回路) カプラの試作検討を実施したので, その結果を報告する. 従来, 本石英PLCカプラの光合波分波回路は, マッハツェンダ型の光導波路を利用した方式が多く用いられている. しかし, 各入出力ポート間の光アイソレーションの値が比較的低く使用可能な波長帯域が制限され易いとという問題がある. また, 石英PLCカプラの製造プロセスとしては (1) 火炎堆積法, (2) SiH_4-CVD法が従来知られているが, (1) には粉末のガラス化工程に高度な温度制御技術を要するという困難さを有し, (2) には安全管理上の困難さをともなうという問題がある. 今回我々は, 光フィルタを光導波路に埋め込み合波分波回路を構成する方式で石英PLCカプラを設計し, ガラス化工程が不要で安全性の高いTEOS低温プラズマCVD法とRIEエッチング法を利用したプロセスにより試作した. このプロセスにより石英PLCカプラが作製できることと, 光フィルタ埋め込み方式による光合波分波回路を実現できることを確認し, ITU規格波長範囲において挿入損失2dB以下, アイソレーション50dB以上の実現の可能性を得た.
社団法人電子情報通信学会の論文
1996-08-20