高濃度ベースセルフアライン型SiGe HBTにおけるGe組成の検討
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-03-06
著者
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西川 哲
沖電気工業(株)半導体技術研究所
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藤巻 浩和
沖電気工業株式会社
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伊藤 秀二
沖電気
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伊藤 秀二
沖電気工業(株)半導体技術研究所
-
中村 稔之
沖電気工業(株)半導体技術研究所
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土方 由美子
沖電気工業(株)デバイスビジネスグループ
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沖田 佳久
沖電気工業(株)デバイスビジネスグループ
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藤巻 浩和
沖電気工業(株)デバイスビジネスグループ
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伊藤 秀二
沖電気工業
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中村 稔之
沖電気工業
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西川 哲
沖電気工業 (株) 基盤技術研究所
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