多重クラッド型導波路形成用F添加SiO_2膜の熱処理温度依存性
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概要
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導波路型光部品の普及に伴って, 導波路にもファイバと同じように, パワ分布, 分散特性などを制御するために, 多重クラッド型構造が望まれる。我々は, 上記導波路構造の低屈折率のクラッド層として, Fを添加したSiO_2膜を用いることを考え, その低損失化を図る上で必須の高温熱処理を行なった場合の屈折率特性, Fの二次イオン質量分析法(SIMS)による挙動, などを調べ, 導波路用膜としての見通しを得ることができたので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
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井本 克之
日立電線アドバンスリサーチセンタ
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大久保 博行
東北大学未来科学技術共同研究センター
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大久保 博行
日立電線(株)オプトロシステム研究所
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堀 彰弘
日立電線アドバンスリサーチセンタ
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大久保 博行
日立電線アドバンスリサーチセンタ
-
平本 道広
サムコインターナショナル研究所
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北門 雅俊
サムコインターナショナル研究所
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平本 道広
サムコインターナショナル研 開発部
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