F添加SiO_2クラッド層で覆ったSiON : 導波路の1.5μm帯での低損失化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-03-06
著者
-
井本 克之
日立電線アドバンスリサーチセンタ
-
堀 彰弘
日立電線アドバンスリサーチセンタ
-
平本 道広
サムコインターナショナル研究所
-
北門 雅俊
サムコインターナショナル研究所
-
平本 道広
サムコインターナショナル研 開発部
関連論文
- Er添加ファイバ増幅器のゲインコンプレッションと偏光依存特性
- Er添加マルチコアファイバ増幅器の偏光依存性の検討
- Er添加マルチコアファイバ増幅器の飽和出力特性の改善
- Er添加マルチコアファイバ増幅器の多波長同時増幅特性
- Er添加マルチコアファイバ増幅器の波長特性
- Er添加マルチコアファイバ増幅器
- Er添加マルチコアファイバの利得の波長依存性
- Er添加マルチコアファイバの光増幅特性
- Er添加マルチコアファイバを用いた光増幅分配装置
- 多重クラッド型導波路形成用F添加SiO_2膜の熱処理温度依存性
- SiON (P-CVD法)系光導波路の熱処理による低損失化
- 高Δ導波路型3dBカプラの光学特性の検討
- 高Δ導波路型3dBカプラの試作
- F添加SiO_2クラッド層で覆ったSiON : 導波路の1.5μm帯での低損失化
- コア層にFを添加した低O-H導波路の検討
- ピッグテールファイバ付き高Δ導波路部品の低損失化の検討
- 1D11 ゾルゲル法によるシリカガラス厚膜の形成