擬似位相整合LiNbO_3導波路を用いた波長変換技術(フォトニックネットワーク向けデバイス, GMPLS, 光バースト/パケットスイッチング, 一般)
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概要
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本報告では擬似位相整合LiNbO_3導波路を用いた波長変換素子の概要と最近の研究状況について述べる。素子の作製技術、1Tbit/sを超える広帯域信号の波長変換、ウエハ直接接合技術を用いた光損傷耐性の向上、さらに多重擬似位相整合素子による可変波長変換などの結果について報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-08-12
著者
-
鈴木 博之
日本電信電話株式会社 NTTフォトニクス研究所
-
鈴木 博之
日本電信電話(株)nttフォトニクス研究所
-
遊部 雅生
NTT光ネットワークシステム研究所
-
忠永 修
NTTフォトニクス研究所
-
忠永 修
日本電信電話(株)NTTフォトニクス研究所
-
西田 好毅
日本電信電話(株)NTTフォトニクス研究所
-
遊部 雅生
日本電信電話(株)NTTフォトニクス研究所
-
遊部 雅生
NTTフォトニクス研究所
-
遊部 雅生
NTT光エレクトロニクス研究所
-
遊部 雅生
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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