保護膜を施した結合ストリップ線路の特性解析
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
モノリシックマイクロ波集積回路(MMIC)においてデバイスや線路を保護するために酸化膜などの保護誘電体膜を施す場合がある。また、半導体チップ表面に受動回路素子を多層誘電体膜で形成した多層化MMICも提案されている。このようなMMICにおいて伝送線路を利用する際、保護膜(誘電体膜)が伝送線路の特性に与える影響を十分に検討する必要がある。本報告では、保護膜を施した結合マシクロストリップ線路を部分境界積分方程式法に基づいて解析法し、保護膜が伝送特性に与える影響について数値解析した。その結果、ストリップ導体が厚く、かつ結合ストリップ導体間隔が小さくなるにつれ、保護膜の影響を強く受けることが分かった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-09-21
著者
関連論文
- C-2-90 マイクロストリップ線路開放端からの放射特性(C-2. マイクロ波B(受動デバイス), エレクトロニクス1)
- 有限な導電率をもつマイクロストリップ線路の特性解析
- 有限な導電率をもつマイクロストリップ線路の伝送特性
- 2層導体をもつマイクロストリップ線路の導体損
- マイクロストリップ線路の導体損
- 導体損をもつマイクロストリップ線路の全波動解析
- 保護膜を施したマイクロストリップ線路の特性解析
- 台形断面導体を持つストリップ線路の部分領域写像法による解析
- 側壁溝を持つブロ-ドサイド結合サスペンデッドストリップ線路の解析
- B-4-56 有限長マイクロストリップ線路の電圧分布
- 導波路構造におけるグリーン関数の特異性
- 任意多層媒質における2次元・3次元グリーン関数の一般解析解とそわらの応用
- マイクロストリップ線路の導体損
- ミリ波用遮蔽マイクロストリップ線路の実装誤差による伝送特性への影響の解析
- 台形誘電体内に導体をもつストリップ線路の特性
- 角を丸くした導体をもつマイクロストリップ線路の導体損
- 多層誘電体構造におけるグリーン関数の一般解析解と多層化マイクロ波集積回路解析への応用
- 積層型二重量子井戸構造を用いた電子波スイッチにおける電界分布効果
- 2層導体をもつマイクロストリップ線路の導体損
- 台形断面導体をもつ結合ストリップ線路の解析
- 台形断面導体をもつストリップ線路の特性解析(その2)
- 角を丸くした導体をもつマイクロストリップ線路の特性解析(その2)
- 任意多層誘電体開放構造における三次元静電グリーン関数の一般解析解
- 角を丸くした導体をもつマイクロストリップ線路の伝送特性
- 台形断面導体をもつストリップ線路の特性解析
- 角を丸くした導体をもつマイクロストリップ線路の特性解析
- 任意多層誘電体開放構造における静電グリーン関数の一般解析解
- 台形断面導体をもつストリップ線路の解析
- V溝マイクロストリップ線路の伝送特性
- 保護膜を施した結合ストリップ線路の特性解析
- 高速パルス発生器による微小インピーダンスの測定
- 合金接合型トランジスタの電荷制御時定数について
- 広帯域光変調器構成の為のLiNbO_3薄板構造
- 有限な導電率をもつマイクロストリップ線路の伝送特性
- 有限な導電率をもつマイクロストリップ線路の伝送特性
- 2層導体をもつマイクロストリップ線路の導体損
- 2層導体をもつマイクロストリップ線路の導体損
- 2次元導波路におけるFDTD法のサブメッシュ効果について
- 2次元導波路におけるFDTD法のサブメッシュ効果について
- FDTD法におけるサブメッシュアルゴリズムの一提案
- 有限要素法による導電性媒質内の電磁界解析
- 半無限平行導体板の直角縁端部における特異性
- C-2-39 マイクロストリップ線路不連続部からの放射特性(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般講演)
- C-2-48 マイクロストリップ線路の開放端からの放射(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般講演)
- C-1-21 損失性媒質エッジ近傍の電磁界(C-1.電磁界理論,一般講演)
- マイクロ波帯各種導波路の整理と解析ソフトの開発
- マイクロ波帯各種導波路の整理と解析ソフトの開発
- マイクロストリップ線路の部分領域写像法による特性解析
- FDTD法による導体内の電磁界解析
- FDTD法におけるサブメッシュ境界からの反射について
- 低誘電率媒質を埋めたマイクロストリップ線路のFEM解析
- 部分領域写像法によるストリップ線路の特性解析
- 導電性内導体をもつ方形同軸線路の解析
- 平面導波路の高集積化・高周波化における課題