VLIWプロセッサのための複数パス投機実行機構
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概要
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VLIWプロセッサに分岐予測を用いた投機実行を適用する際に, 分岐予測機構の回路面積のオーバーヘッドが問題となる.そこで本稿では, 分岐予測を用いないデュアル・パス(DP)投機実行機構を示し, その有効性について調査する.DP手法では, 分岐予測を行わずに, 分岐成立・不成立の両方向のパスのVLIW命令をNOP命令を除いた1つのVLIW命令にまとめ, このVLIW命令を投機的に実行する.このようにDP手法では, 分岐予測機構を用いないため, 回路面積を大幅に削減することができる.DP手法をVLIWプロセッサに適用した場合, 遅延分岐を適用したVLIWプロセッサに対して約15%以上, IPCを向上できることがわかった.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-07-19
著者
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