気相分解/全反射蛍光X線分析法によるシリコンウェハー上の軽元素分析
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概要
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気相分解 (VPD) を組み合わせた全反射蛍光X線分析 (TXRF), VPD/TXRF法によって, Si ウェハー上の極微量Na及びAlの分析を行った. Na及びAlの高感度分析を行うために, W-Mα線を用いてTXRF測定を行った. 従来のTXRFでは検出できなかった10^<11> atoms cm^<-2>の汚染レベルの試料において, 分析対象元素に帰属されるピークが明確に観測された. 150 mm径のウェハーに対してVPD処理を行った場合, 検出下限値 (LLD) は, LLD(Na)=3×10^<10> atoms cm^<-2>, LLD(Al)=2×10^9 atoms cm^<-2>であり, 従来法と比較しておよそ2けた向上した. 得られた結果を原子吸光法の結果と比較し, 両者に良い一致が見られた. 励起X線の視斜角を変化させたTXRF測定を行い, 試料の付着形態を評価した. その結果, VPD処理によって, ウェハー上の分析対象物質の付着形態が, 粒子状になることが確認された.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 1999-11-05
著者
-
脇田 久伸
福岡大学理学部化学科
-
池田 重良
立命館大学総合理工学研究機構
-
池田 重良
立命館大学srセンター
-
森 良弘
新日本製鐵(株)先端技術研究所
-
庄司 孝
理学電機
-
谷口 一雄
大阪電気通信大学
-
山上 基行
理学電機(株)X線研究所
-
野々口 雅弘
理学電機(株)X線研究所
-
山田 隆
理学電機(株)X線研究所
-
庄司 孝
理学電機(株)X線研究所
-
宇高 忠
理学電機(株)X線研究所
-
野村 惠章
大阪電気通信大学短期大学部電子情報学科
-
脇田 久伸
福岡大学理学部
-
脇田 久伸
福岡大学理学研究科化学専攻
-
山上 基行
福岡大学理学部
-
Wakita Hisanobu
Department Of Chemistry Faculty Of Science Fukuoka University
-
山田 隆
理学電機
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