SPACE : 対話型マスクパターン設計システム : システム概要
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概要
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近年のVLSIの大規模化・高密度化に伴い,セル設計工数は益々増加している。このため高い操作性を備え、高密度・高性能なセルを短期間に設計可能なCADシステムの要求が高まっている。このような分野では、モジュールジェネレータ等の自動設計システムが種々報告されているが、設計者の知識、経験を必要とする場合もあり、実用面ではまだ問題が有る。このため、高密度・高性能なセルを得るにはまだ人手介入が必要となる。そこで人手設計工数を最小とするために、複合図形レベルの図面編集、マクロコマンド、オンライン設計規則チェック機能を備え、エンジニアリングワークステーション(EWS)上で動作する対話型マスクパターン設計システムSPACE(Sophisticated Pattern Editor for VLSI Cell Design)を開発した。本報告では、システムの概要と特長を示す。
- 社団法人情報処理学会の論文
- 1988-09-12
著者
-
鈴木 五郎
日立製作所大みか工場
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浜田 亘曼
(株)日立製作所日立研究所
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浜田 亘曼
日立製作所日立研究所
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岡村 芳雄
日立製作所デバイス開発センター
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佐藤 多加志
日立製作所デバイス開発センター
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加藤 真司
日立製作所 デバイス開発センタ
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