X線非平行モノクロメータ法によるエピタキシャル膜の格子変形の測定 : 結晶評価
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概要
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- 日本結晶成長学会の論文
- 1978-11-05
著者
-
入戸野 修
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
-
入戸野 修
東京工業大学理工学研究科材料工学専攻
-
入戸 野修
東工大工
-
清水 三郎
東京工業大学・工学部:lilvac
-
入戸野 修
東京工業大学
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