Arイオン注入した銅ひげ結晶の格子欠陥のX線による研究
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- ニ源成膜装置によるNi-C複合膜の作製とその場分析
- 25pYB-11 CuInSe_2の相転移と電気伝導
- 24aPS-171 電析ニッケル薄膜の磁気的特性II(表面・界面, 結晶成長,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 30aWR-1 電析ニッケル薄膜の磁気的特性(領域9,領域3合同 : 表面磁性)(領域9)
- 30aWR-1 電析ニッケル薄膜の磁気的特性(領域9,領域3合同 表面磁性)(領域3)
- 17pPSA-28 電析Ni膜の膜厚に依存した構造および磁気特性
- 27p-R-12 格子不安定性を伴う相変態の電気抵抗精密測定
- 電子辞書使用の何が漢字学習を促進するのか
- 29-2C2 定着した漢字から見た漢字学習の方法
- 科学技術文献読解のための漢字指導法の見直し
- 語彙分析と実験授業から得た初級日本語学習者のための理工系漢字の選定と授業方法
- 学習者のニーズに応える漢字習得法の考察
- モンテカルロ法によるバルクハウゼンノイズシミュレーション
- 磁性体の微細めっきによるマイクロ磁気スケールの開発(計測・高周波デバイス)
- Fe-Co/Ag多層膜の巨大磁気抵抗効果
- 磁性体微粒子を分散した薄膜の構造物性
- 不連続Fe薄膜の組織と磁気コントラスト
- 5a-TA-11 多孔質Siに対する逆格子点近傍のX線回折強度分布
- 27p-L-4 放射光X線トポグラフィ装置 I : 設計・製作・立上げと運転
- 無電解Co-BおよびCo-Fe-B析出への非晶質合金基板組成の影響
- In-Hg合金の相変態の特徴
- In-(30〜40at%)Pb合金の時効過程における相変化
- 相変態様式の制御 (形状記憶合金の可能性を探る)
- 1a-G-1 強弾性体In基合金の相変態の現象論
- In-(12〜14at%)Pb合金の時効過程における相変化
- In基合金の相変化と相変態
- In基合金の相変態機構
- In-Sn合金のマルテンサイト変態の結晶学的研究
- In-Pb合金の相変態と形状記憶効果
- In-Sn合金の相変化と形状記憶効果
- Li元素を含むIn-Tl合金単結晶のfcc-fct相変態のX線による研究
- 2p-M-4 In 系合金の形状記憶効果とx線トポグラフ
- In-Cd合金のfcc-fct相変態の現象論的研究
- In-Cd合金結晶の形状記憶
- Fe_Si_B_/Fe_Si_7B_ 2層非晶質薄帯の磁気特性に及ぼす熱処理の影響
- Fe_Si_B_C_/Fe_Si_7B_2層薄帯の磁気特性に及ぼす熱処理の影響
- 非晶質薄帯を下地層としたCo系電析膜の磁気特性に及ぼす熱処理の影響
- 非晶質薄帯上に電析したCo-Ni層への熱処理による界面応力の効果
- Co系電析への基板の影響
- 化合物半導体Ga_2Te_3に出現するメソスコピックな長周期構造
- Ga_2Se_3化合物半導体の規則-メソスコピック相変態
- メゾスコピック材料-特集号の企画に当たって-
- γ-MnNi合金における相変態の特徴(合金の相変態とその前駆現象,科研費研究会報告)
- 2p-M-11 複結晶法放射光トポグラフィを用いたGaAs単結晶の評価
- 2a-KK-2 Fe-3%Si磁区の磁場中観察
- 27p-L-8 放射光X線トポグラフィ装置 V : その他のトポグラフィ
- 多孔質シリコン細孔中に析出した無電解Co系めっき合金の形状および磁気特性
- 多孔質シリコンを基板とした無電解Co系合金めっき膜の形状および磁気特性
- Sn単結晶の融解・凝固過程のその場観察
- 平板融解凝固法で育成した錫単結晶のSRトポグラフ : 評価
- 粉末X線回折法によるハロゲン化銀乳剤粒子のクリスタリットのサイズの測定と結晶欠陥の評価
- 粉末X線回折法によるハロゲン化銀乳剤粒子のクリスタリットのサイズの測定と結晶欠陥の評価
- X線非平行モノクロメータ法によるエピタキシャル膜の格子変形の測定 : 結晶評価
- 東京工業大学における金属教育の現状 (大学・高専における金属教育の現状)
- 二源堆積法(CVD+IBS)によるCo-Cコンポジット膜の磁気特性
- 薄膜・多層膜
- X線の動力学的回折現象を利用した手法(X線トポグラフィーとX線ゴニオメトリー)
- 対向陰極型直流反応スパッタ法で作製したα-FeN_x微細粒子を分散したAlN薄膜の磁気および電気特性
- 技術トピックス 土木 鉄鋼材の劣化診断システムの開発
- 転位を含んだスピン系のモンテカルロシミュレーション
- 残留応力検出のための角度分解バルクハウゼンノイズ測定
- 強い射影効果のもとで堆積したスパッタ銅膜の構造
- 高温酸化膜の蒸発現象を利用したエレクトロクロミック薄膜の作成
- 準2次元的TMDCの結晶成長と構造 : 評価
- 多目的型シンクロトロン・トポグラフィ装置
- 六方晶金属単結晶の育成と内部構造の研究 : ひげ結晶と金属
- 成長結晶表面のX線反射法による評価 : ひげ結晶と金属
- 1a GK-8 X線反射曲線法による単結晶表面層の格子歪の測定
- カドミウム単結晶の育成とX線トポグラフ観察 : 格子欠陥
- 収蔵品が語る百年の歴史(精密工学の最前線)
- 直流マグネトロンスパッタ-による装飾用TiNコ-ティング--負電圧を印加したグリッドの利用
- 薄膜の応力とその物理冶金学的現象への影響 (薄膜の材料学の基礎--構造,反応,拡散,力学的性質を中心として)
- 126 急激な応力こう配がある場合のSin^2ψ線図に関するシミュレーション(変形と計測)
- X線回折によるスパッタ膜の3次元応力測定についての一考察
- Arイオン注入した銅ひげ結晶の格子欠陥のX線による研究
- 理工系学生の科学コミュニケーション能力育成を目的とした科学館との連携事業
- ロッシェル塩の成長形態に及ぼす不純物原子の影響 : 溶液成長
- 外部誘導型高周波放電方式の直流スパッタ法によるCo薄膜の微細構造と磁気特性
- 1p-N-3 γMn-Ni合金の電気抵抗の温度変化の測定
- 多層膜法により作製したグラニュラー合金膜の構造と巨大磁気抵抗効果
- 不連続磁性層/連続非磁性層の交互積層膜の巨大磁気抵抗効果
- 高周波重畳直流円筒マグネトロンスパッタ装置で成膜したチタン薄膜の特徴
- 円筒マグネトロンスパッタ装置の電極構造の改良
- 円筒マグネトロンスパッタ装置によるチタン及びβチタン合金被膜の破面観察
- ホローカソード放電による金属焼結材のプラズマ窒化
- 円筒マグネトロンスパッタ装置による純銅線へのチタン被覆
- 円錐形タ-ゲットを用いた線材被覆用直流スパッタ装置の試作
- 新型円筒マグネトロンスパッタ装置による被膜の構造
- 材料研究と日常生活 : 技術革新と「しつけ」
- 陽極化成法による多孔質シリコンの細孔構造と格子ひずみ
- イオンビームスパッタリング法によって作製される金属薄膜のエピタキシャル成長 : 薄膜
- 膜の微細構造の解析法-回折図形から得られる情報-
- 27p-P-3 SORトポグラフィによる結晶成長のその場観察
- 直流対向陰極型スパッタ装置による斜め蒸着鉄薄膜の構造と磁気特性
- X線トポグラフィ (強力X線の利用研究)
- 気相成長結晶WS_2の成長ステップとエッチピット
- 低転位密度の薄板金属単結晶の簡単な作製法
- 29p-T-3 金属ひげ結晶の表面の評価
- X線3結晶法による完全性の評価
- 4p-N-12 カドミウム単結晶の育成とキャラクタリゼーション