円筒マグネトロンスパッタ装置によるチタン及びβチタン合金被膜の破面観察
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概要
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Films of pure Ti and β-Ti alloy were deposited on Cu and W wires and on pencil lead by cylindrical magnetron sputtering with bias potential more negative than the target potential. Cross-sectional surfaces of films formed by fracturing were observed with SEM to study the effect of bias on film structures. For films of both Ti and β-Ti alloy on Cu wires prepared at high bias voltages, dimple patterns were always observed. It was concluded that bias potential was effective forming ductile films by this sputtering method and that dimple patterns in fracture implied that films were stable against fairly large plastic deformation. It was also shown that β-Ti alloy films were more ductile than pure Ti films.
- 日本真空協会の論文
- 1995-08-20
著者
-
入戸野 修
福島大学共生システム理工学類
-
入戸野 修
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
-
入戸野 修
東京工業大学工学部金属工学科
-
入戸 野修
東工大工
-
入戸野 修
東京工業大学工学部 : 百年記念館
-
金子 忠夫
群馬工業高等専門学校
-
桜井 美恵子
群馬工業高等専門学校
-
入戸野 修
東京工業大学
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