酸化スズ薄膜ガスセンサーにおけるIV族元素酸化物の添加効果
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概要
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The effects of IV group element (Zr, Ti, Ge, Si) oxides addition on the grain growth of Sn0_2 thin films at elevated temperature (600 1000℃ were investigated. It was found that addition of 10 mol% Ge0_2 controlled the grain growth of Sn0_2 effectively without changing the resistivity. Addition of Ge0_2 decreased the response time for 2 methyl 2 butene by the formation of Sn0_2 thin films with uniform crystallite size.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1995-01-01
著者
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高橋 康隆
岐阜大学工学部
-
大竹 秀樹
岐阜大学工学部応用化学科
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大夫 豊
岐阜大学工学部応用化学科
-
金森 正晃
NOK(株)研究開発本部研究一部
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高橋 康隆
岐阜大学工学部機能材料工学科:(現)大研化学(株)
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