金/窒化ケイ素モデル界面の微細構造と組成
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概要
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An Au/Si_3N_4 interface was obtained by vapor deposition of Au on a Si_3N_4 substrate in vacuum, both at room temperature and 600°C. The interface structure and chemical composition were investigated by high resolution and analytical electron microscopy. A damaged phase was observed between Au and Si_3N_4 crystals. The thickness of this phase increased when the substrate surface was polished or the substrate was heated. This phase was found to be amorphous and merely composed of Si and N.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1999-12-01
著者
-
幾原 雄一
東京大学工学部総合研究機構
-
幾原 雄一
東京大学工学部
-
米光 恭子
(財)ファインセラミックスセンター微構造グループ
-
鈴木 寛
(財)ファインセラミックスセンター微構造グループ
-
斉藤 智浩
(財)ファインセラミックスセンター微構造グループ
-
鈴木 寛
(財)ファインセラミックスセンター微構造グループ:(現)トヨタ自動車(株)第4開発センター第3材料技術部
-
幾原 雄一
東京大学工学系:東北大学WPI-AIMR:ファインセラミックスセンター
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