熱処理に伴うシリカガラス表面付近の構造変化
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概要
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The effect of annealing on the distribution of OH content and defect structures in a disk shaped block of fused silica containing approximately 1500 ppm of OH was investigated. Heating at 1160℃ for 120 h reduced the OH content near surface by about 60 ppm, and absorption bands at 6.5, 5.8, 5.0 and 4.8 eV were induced near the side surface. The amount of the reduction of OH content near the top surface was about 45 ppm, and only the 6.5-eV band was induced.
- 1998-05-01
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