合成石英ガラスのKrFエキシマレーザー誘起吸収特性 : 誘起吸収強度と200nmにおける内部吸収強度の関係
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概要
著者
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葛生 伸
福井大学工学部物理工学科
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中村 隆幸
山口日本石英株式会社
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神杉 直良
山口日本石英硝子(株)
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伊原 義尚
山口日本石英株式会社
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神杉 直良
山口日本石英株式会社
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葛生 伸
福井大学工学研究科
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