4a-D-3 PLAS法とEA法によるa-Si:H/a-Si_3N_4:H界面評価

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1990-09-12

著者

• 仁田 昌二

  岐阜大学工学部電子情報工学科

• 野々村 修一

  岐阜大学工学部電子情報工学科

• 宮島 博文

  岐阜大学工学部

• 野々村 修一

  岐阜大学 大学院工学研究科

• 仁田 昌二

  岐阜大学工学部

• 向井 雅通

  岐阜大学工学部

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