Thickness Dependence of Carrier-Electron States in Doped Semiconductor Films
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概要
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By raaeans of the local-density-ftrnctional fornualistn, xve exazmine the thickness dejcendence ofcarrier-electron states in doped sermicondtrctor films with and withotrt surface carrier-depletionlayers. The film tl'xickness is varied in a broad range xvhere otrr carrier system evolves frorm avirttrally seraui-infinite (S-I) systern to a quasi-two-diuaaensional (2D) one, The carrier-densitydistribtmtion uaear tlae strrface and the level of the chenaical potential are found to retrraira tluesatne as those of tlae S-I systetn down t,o strch 21 szaaall thickness that carrier uuaotion norraaal to thestmrfaces is quantized significantly. NVith further decrease in filtn thickness, otrr carrier systeraaevolves fiom the above S-I-like system into a qvxasi-2D orae differently in the absence and presenceof the depletion layers.
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1999-12-15
著者
-
稲岡 毅
琉球大理
-
NISHIDA Atsushi
Department of Psychiatry, Division of Neuroscience, Mie University, Graduate School of Medicine
-
Nishida Atsushi
Graduate School Of Pharmaceutical Sciences Chiba University
-
HASEGAWA Masashi
Institute of Materials Research, Tohoku University
-
HASEGAWA Masayuki
Department of Physics, Faculty of Science, Tohoku University
-
INAOKA Takeshi
Department of Electrical and Electronic Engineering, The University of Tokushima
-
Inaoka Takeshi
Department Of Electrical And Electronic Engineering The University Of Tokushima
-
Nishida A
Graduate School Of Pharmaceutical Sciences Chiba University
-
Hasegawa M
Institute Of Materials Research Tohoku University
-
Nishida Atsushi
Department Of Chemical System Engineering The University Of Tokyo
-
Hasegawa Masayuki
Department Of Materials Science And Technology Faculty Of Engineering Iwate University
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