ダイズ葉における光合成の光阻害 : 第2報 光阻害回避機構の可能性としての葉の調位運動について
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概要
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ダイズ葉の調位運動が強光による光合成の光阻害に対する回避機構の一つとして働いている可能性を探るために, 葉に種々の強度の光を照射し, 水平面入射光強度(HL)と葉面入射光強度(LL)との関係を調査した. 1000μE/m^2/sec以下の光を葉に照射した場合には, LLのHLに対する割合(LL/HL)は常に0.9以上の高い値を示し, 光を避けるような調位運動は見られなかった. 1000μE/m^2/sec以上の光を葉に照射すると, LL/HLはHLの増大に伴って減少する傾向を示し, 葉は光を避けるような調位運動を行った. この傾向は, 光照射時間が13時間と長くなると極めて顕著になった. 以上の結果から, ダイズ葉の調位運動は, 葉が極めて強い光を長時間受けるような場合, 光合成の光阻害を回避する機構として働いている可能性があるものと考えられた.
- 日本作物学会の論文
- 1983-09-05
著者
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