半導体開放スイッチを用いたパルスパワー発生器によるプラズマ水処理の評価
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2013-01-10
著者
-
江 偉華
長岡技術科学大学
-
南谷 靖史
山形大学
-
青柳 信広
長岡技術科学大学
-
須貝 太一
長岡技術科学大学
-
徳地 明
パルスパワー技術研究所
-
ソン チャンナム
長岡技術科学大学
-
小笠原 興道
長岡技術科学大学
関連論文
- 26pYL-15 大強度イオンビームによる高エネルギー密度実験の検討(プラズマ基礎(原子過程・高エネルギー密度プラズマ物理),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
- 26pYL-14 大電流電子ビームを用いたWarm Dense Matter生成(プラズマ基礎(原子過程・高エネルギー密度プラズマ物理),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
- 21pTB-7 Large Orbit Gyrotronによるテラヘルツ波の発振と評価(プラズマ科学(プラズマ応用,ジャイロトロン1),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
- 18pQE-12 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発IV(プラズマ科学(高強度レーザー,ジャイロトロン),領域2,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 18pQE-13 Large Orbit Gyrotronにおける電子ビームの発生と伝搬(プラズマ科学(高強度レーザー,ジャイロトロン),領域2,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 26aQA-7 Large Orbit Gyrotronの三次元シミュレーション解析(26aQA プラズマ科学(ジャイロトロン),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 26aQA-8 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発III(26aQA プラズマ科学(ジャイロトロン),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 30pUG-3 高周波テラヘルツ光源・ジャイロトロンの開発(30pUG 高エネルギー密度状態の科学(プラズマ放射),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 29pUC-7 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発II(29pUC プラズマ科学,領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 相対論的パルス電子ビームを用いた Large Orbit Gyrotron の開発
- LOG用相対論的パルス電子ビームの発生と評価
- 20aXK-6 Large Orbit Gyrotronによる電磁波発振の三次元粒子シミュレーション(プラズマ科学(ジャイロトロン/X線レーザー),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 20aXK-1 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発(プラズマ科学(ジャイロトロン/X線レーザー),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 25aXG-11 400keV電子ビームを用いた高出力LOGの開発III(プラズマ科学(ジャイロトロン),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- SiC-JFET駆動用ゲート回路の開発
- 大電流パルス電子ビーム照射による水生微生物処理
- 半導体開放スイッチを用いたパルス高電圧発生器
- 極限エネルギー密度発生・応用装置"ETIGO-III"で発生されるパルス相対論的電子ビームの特性
- 大強度パルス相対論的電子ビームによるNO_X除去
- パルスパワー発生装置"ETIGO - III"によるIREB発生最適化
- 高繰り返しパルスパワー技術の新展開
- イオンビームアブレーションプラズマの動特性計測
- パルスレーザー堆積法によるCr-Cu-N-O薄膜の作製
- 三次元粒子シミュレーションを用いた相対論的マグネトロンの特性評価と効率改善
- 高繰り返しSOS電源を用いた大気圧放電
- 仮想陰極発振器における大電力マイクロ波発生効率の評価
- 大電流パルスパワー電源を用いたEUV光源に関する研究
- 大気圧電子ビームダイオード用パルス高電圧電源の開発
- 高繰り返しSOS電源の開発と大気圧放電への応用
- パルス細線放電法によるZnFe_2O_4超微粒子の作製
- 大旋回半径ビームジャイロトロン(LOG)の三次元数値シミュレーション
- パルスイオンビームアブレーションによる飛翔体加速効率の最適化
- 大強度パルスイオンビームによるアブレーション加速の時間依存解析
- 大強度パルスイオンビームアブレーションによる飛翔体加速
- 大強度イオンビームアブレーションによる飛翔体加速
- 15aQA-2 400 keV 電子ビームを用いた高出力 LOG の開発 II(プラズマ科学 : 電磁波発生・応用, 領域 2)
- 27pWH-5 400keV電子ビームを用いた高出力LOGの開発(プラズマ基礎・科学(プラズマ応用))(領域2)
- プラズマフォーカスによるEUV発生実験
- 半導体スイッチを用いた小型パルスパワー電源開発
- SIサイリスタを用いた高繰り返しパルスパワー電源の開発
- パワーMOSFETを用いたMARX発生器
- パルスイオンビーム蒸着法によるSi_Ge_x固溶体薄膜の作製
- SOSダイオードを用いたパルスパワー電源の開発と応用
- SOSを用いた小型繰返しパルスパワー発生装置の開発
- パルスレーザー堆積法により作製したCr-Mg-N-O薄膜の酸化挙動
- パルスレーザー堆積法により作製したCr(N, O)薄膜の組織観察
- 仮想陰極発振器の動特性評価と最適化
- パルスイオンビーム蒸着法によるSi基板上のビアホールへのW埋込み
- 三次元収束型プラズマ・フォーカス・ダイオードにおけるイオンビームの動特性評価
- パルスパワー技術の産業応用調査専門委員会
- パルス電磁エネルギーの発生と制御調査専門委員会
- 高効率仮想陰極発振器の開発と特性評価
- パルス細線放電法によるSnO_2ナノ粒子の粒径分布
- パルスイオンビーム蒸着法を用いた堆積・反応同時プロセスによるHf-Si-O薄膜の作製
- パルスパワー技術による新材料合成
- パルス細線放電法による成膜実験
- 2.パルスパワー技術の歴史とその仕組み(パルスパワー技術入門)
- 1.はじめに(パルスパワー技術入門)
- パルスパワーを用いた材料開発 : パルスレーザーデポジション法による(Cr,Al)N薄膜の合成
- PLD法で成膜したAlN薄膜表面の粗さ評価
- 背面堆積イオンビーム蒸着法による(Ba_xSr_)TiO_3薄膜のin situ作製
- パルス細線放電法による超微粒子生成とその応用
- 3.パワー半導体デバイスの役割(パルスパワー技術入門)
- パルス細線放電法におけるプラズマの挙動観察
- パルス細線放電法によるAlN超微粒子の作製
- 相対論的電子ビームを用いた高出力マイクロ波の発生 : 高効率仮想陰極発振器の開発
- 大強度パルスイオンビーム蒸着法によるB_4C薄膜の作製
- パルスイオンビーム蒸着法によるB_4C薄膜作製
- SiC-JFETを用いた誘導加速シンクロトロン用高速・高電圧スイッチング電源の開発
- パルス電子ビームを用いた大電力マイクロ波の発生
- 放電励起希土類プラズマからの極端紫外光放射
- 超短パルスレーザー誘起放電プラズマからのTHz放射特性
- SOSを用いた排ガス処理用パルス高電圧発生器
- パルスイオンビームプロセス
- 21aGH-8 次世代パルス最強磁場発生装置技術開発の現状(21aGH 実験技術開発・磁性一般,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 三次元収束型SPFDにおけるイオンビームの収束性の時間分解計測
- 仮想陰極発振器の周波数挙動解析
- 半導体スイッチを用いたパルス高電圧発生法
- 28aC10P JT-60U負イオン源の多孔ビーム軌道解析(加熱・加速、ミラー他)
- 4. アブレーションプラズマ生成・制御2(イオンビーム) (アブレーションプラズマのプロセス応用)
- パルス電磁エネルギー技術の開発と応用
- サブテラヘルツ帯高出力パルスジャイロトロンの三次元粒子シミュレーション解析
- パルス高電圧の発生と排ガス処理への応用
- SIThyを用いた高電圧スイッチングユニット開発
- SIサイリスタを用いた高速高電圧スイッチング回路の開発
- SOS電源を用いた水滴噴霧パルス放電水処理の特性
- SOS素子を用いたパルス高電圧電源の特性評価
- パルス細線放電法によるアルミナ超微粒子の作製と評価
- 2.相対論的電子ビームを用いたジャイロトロンにおける大電力マイクロ波発生の基礎とシミュレーション(電子ビームを用いたミリ波・テラヘルツ波発生の基礎と物理)
- SIサイリスタを用いた高速高電圧スイッチング回路の開発
- SiC-JFETを用いた誘導加速シンクロトロン用高速・高電圧スイッチング電源の開発
- SOSを用いた排ガス処理用パルス高電圧発生器
- 放電励起希土類プラズマからの極端紫外光放射
- SOS素子を用いたパルス高電圧電源の特性評価
- SiC-JFET駆動用ゲート回路の開発
- 超短パルスレーザー誘起放電プラズマからのTHz放射特性
- SOS電源を用いた水滴噴霧パルス放電水処理の特性
- パルス高電圧の発生と排ガス処理への応用
- サブテラヘルツ帯高出力パルスジャイロトロンの三次元粒子シミュレーション解析
- 半導体開放スイッチを用いたパルスパワー発生器によるプラズマ水処理の評価