パルスイオンビーム蒸着法によるSi_<1-x>Ge_x固溶体薄膜の作製
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概要
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- 2002-03-15
著者
-
八井 浄
長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター
-
内富 直隆
長岡技術科学大学電気系
-
江 偉華
長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター
-
末松 久幸
長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター
-
八井 浄
長岡技術科学大学 極限エネルギー密度工学研究センター
-
江 偉華
長岡技術科学大学
-
偉華 江
長岡技術科学大学電気系 同粒子ビーム工学センター
-
末松 久幸
長岡技術科学大学工学部電気系
-
Yatsui K
Technological Univ. Nagaoka Nagaoka Jpn
-
岩下 竜馬
長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター
-
楊 城彩
長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター
-
末松 久幸
長岡技術科学大学
-
内富 直隆
長岡技術科学大学工学部電気系
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