Formation and Expansion of Ablation Plasmas Produced by Pulsed Ion Beams for Thin Films Production
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
The formation and expansion of the ablation plasmas by ion-beam evaporation (IBE), which was a method of the thin films production using the ablation plasmas deposited on the substrates, were analyzed numerically. We used the one-dimensional hydrodynamic model explained the interaction between the targets and incident ion beams. Changing ion beam angle could control the ablation pressure during the formation of the ablation plasma without significantly changes of the plasma temperature. The expansion velocities of the ablation plasma reached up to the substrates for various target materials were defined by distributions of the ion number densities of the ablation plasmas, and were agreed well with experimental ones observed by high-speed camera. We found out that there was a time lag of the ablation plasma reached up to the substrate between the peak of the plasma ion number density and plasma temperature. The numerical results of the expansion velocities of the ablation plasmas and plasma temperatures could apply to estimate for the production of not only the thin films but also the multi-layered ones.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2006-01-01
著者
-
八井 浄
長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター
-
SUEMATSU Hisayuki
Extreme Energy-Density Research Institute, Nagaoka University of Technology
-
JIANG Weihua
Extreme Energy-Density Research Institute, Nagaoka University of Technology
-
YATSUI Kiyoshi
Extreme Energy-Density Research Institute, Nagaoka University of Technology
-
YAZAWA Masaru
Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology
-
BUTTAPENG Chainarong
Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology
-
HARADA Nobuhiro
Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology
-
末松 久幸
長岡技科大
-
Jiang W
Extreme Energy-density Research Institute Nagaoka University Of Technology
-
Jiang Weihua
Extreme Energy-density Research Institute Nagaoka University Of Technology
-
Yazawa Masaru
Department Of Electrical Engineering (nagaoka University Of Technology)
-
Yatsui K
Technological Univ. Nagaoka Nagaoka Jpn
-
Yatsui Kiyoshi
Laboratory Of Beam Technology Department Of Electrical Engineering Nagaoka University Of Technology
-
Harada N
Department Of Electrical Engineering (nagaoka University Of Technology)
-
Buttapeng Chainarong
Department Of Electrical Engineering (nagaoka University Of Technology)
-
Harada N
Department Of Biochemistry Fujita Health University School Of Medicine
-
Yatsui Kiyoshi
Extreme Energy Density Research Institute Nagaoka University Of Technology
-
Harada Nobuhiro
Department Of Electrical Engineering (nagaoka University Of Technology)
-
Harada Nobuhiro
National Chemical Laboratory For Industry
-
Harada Nobuhiro
Department Of Biochemistry Fujita Health University
-
Yatsui K
Extreme Energy-density Research Institute Nagaoka University Of Technology
-
八井 浄
Extreme Energy-density Research Institute Nagaoka University Of Technology
-
Suematsu Hisayuki
Extreme Energy-density Res. Inst. Nagaoka Univ. Of Technol.
-
Yamashita Kazuki
Department Of Electrical And Electronic Engineering Niigata University
-
Shishido H
Extreme Energy-density Research Institute Nagaoka University Of Technology
-
Jiang Weihua
Extreme Energy Density Research Institute, Nagaoka University of Technology, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan
関連論文
- 第51回応用物理学関係連合講演会(2004年)
- 29a-YC-5 アモルファスコアを用いた高電圧昇圧トランスの開発(V)
- 12a-N-11 アモルファスコアを用いた高電圧昇圧トランスの開発 IV
- 29a-ZD-3 アモルファスコアを用いた高電圧昇圧トランスの開発(III)(プラズマ物理・核融合)
- 25p-A-9 アモルファスコアを用いた高電圧昇圧トランスの開発(II)
- 25p-A-8 アモルファス磁性体の磁化特性の評価
- 18pQE-12 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発IV(プラズマ科学(高強度レーザー,ジャイロトロン),領域2,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 26aQA-7 Large Orbit Gyrotronの三次元シミュレーション解析(26aQA プラズマ科学(ジャイロトロン),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 26aQA-8 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発III(26aQA プラズマ科学(ジャイロトロン),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 30pUG-3 高周波テラヘルツ光源・ジャイロトロンの開発(30pUG 高エネルギー密度状態の科学(プラズマ放射),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 29pUC-7 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発II(29pUC プラズマ科学,領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 相対論的パルス電子ビームを用いた Large Orbit Gyrotron の開発
- LOG用相対論的パルス電子ビームの発生と評価
- 20aXK-6 Large Orbit Gyrotronによる電磁波発振の三次元粒子シミュレーション(プラズマ科学(ジャイロトロン/X線レーザー),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 大電流パルスアーク放電の特性評価
- 3a-W-10 放電スイッチの特性評価 II
- 20aXK-1 大強度パルス電子ビームを用いた高出力LOGの開発(プラズマ科学(ジャイロトロン/X線レーザー),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 25aXG-11 400keV電子ビームを用いた高出力LOGの開発III(プラズマ科学(ジャイロトロン),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 907 高気圧パルス・グロー放電の崩壊に及ぼす衝撃波の影響(オーガナイズドセッション10 ハイエンタルピー流れ-燃焼,衝撃波,・・・-)
- 大強度パルス相対論的電子ビームによるディーゼル排ガス処理
- 大強度パルス相対論的電子ビーム照射によるオゾン生成
- 横方向励起大気圧ガスレーザの励起放電に及ぼす衝撃波の影響
- 大強度パルス相対論的電子ビームによるNQx処理
- 流れ内におけるエキシマレーザのダブルパルス励起放電特性
- 極限エネルギー密度発生・応用装置"ETIGO-III"で発生されるパルス相対論的電子ビームの特性
- 高気圧パルスグロー放電に及ぼす衝撃波の影響
- 大強度パルス相対論的電子ビームによるNO_X除去
- 802 エキシマレーザの励起放電に及ぼす衝撃波の影響(GS.7 流体工学1)
- パルスパワー発生装置"ETIGO - III"によるIREB発生最適化
- 高気圧パルスグロー放電に及ぼす気体密度くぼみの影響
- TEA-CO_2レーザーによる気中放電誘導機構の研究
- TEA-CO_2レーザーによる気中放電誘導機構の研究
- SrTiO_3強誘電体使用紫外線予備電離小型TEA-CO_2レーザの発振特性
- Discharge-pumped XeCl excimer laser with high-speed gas flow using ludwieg tube
- イオンビームアブレーションプラズマの動特性計測
- Effects of He Ambient on Formation of Si Particles Using Pulsed Ion-Beam Evaporation
- 高繰り返しSOS電源を用いた大気圧放電
- 仮想陰極発振器における大電力マイクロ波発生効率の評価
- 大電流パルスパワー電源を用いたEUV光源に関する研究
- 大気圧電子ビームダイオード用パルス高電圧電源の開発
- SiC-JFETの繰り返し動作特性の評価
- 高繰り返しSOS電源の開発と大気圧放電への応用
- Effect of Ambient Gas Temperature on Synthesis of Fe-N Nanosized Powders by Pulsed Wire Discharge
- Nanosized Ferrite Particles Synthesized by Pulsed Wire Discharge
- Formation and Expansion of Ablation Plasmas Produced by Pulsed Ion Beams for Thin Films Production
- パルス細線放電法によるZnFe_2O_4超微粒子の作製
- 放電スイッチの長時間連続動作特性
- 空心トランスを用いた高繰り返しパルス電力装置の開発
- 空心トランスを用いたダブルパルス発生装置の開発
- 2002年 研究開発の動向
- 大旋回半径ビームジャイロトロン(LOG)の三次元数値シミュレーション
- パルスイオンビームアブレーションによる飛翔体加速効率の最適化
- 大強度パルスイオンビームによるアブレーション加速の時間依存解析
- 大強度パルスイオンビームアブレーションによる飛翔体加速
- 大強度イオンビームアブレーションによる飛翔体加速
- 2003年 研究開発の動向
- 26aB11P 大強度電子ビームを用いた短パルスサブミリ波ジャイロトロンの開発(加熱・加速, 磁場・電源, 炉設計, 新概念, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- 15aQA-2 400 keV 電子ビームを用いた高出力 LOG の開発 II(プラズマ科学 : 電磁波発生・応用, 領域 2)
- 27pWH-5 400keV電子ビームを用いた高出力LOGの開発(プラズマ基礎・科学(プラズマ応用))(領域2)
- プラズマフォーカスによるEUV発生実験
- 大強度パルスイオンビーム蒸着法によるYBCO超伝導体薄膜の作製
- SOSを用いた産業用パルス高電圧発生器の開発
- 大電流パルスアーク放電の特性評価
- 30p-YX-9 放電スイッチの特性評価(III)
- 3a-W-9 放電スイッチの特性評価 I
- 12a-N-10 スパークギャップスイッチにおける放電損失の評価
- アモルファス金属性磁体コアの大電流パルス磁化特性
- Blue Light Emission from Ultrafine Nanosized Powder of Silicon Produced by Intense Pulsed Ion-Beam Evaporation
- Synthesis of Fe-N Nanosized Powders by Pulsed Wire Discharge
- Synthesis of Single-Walled Carbon Nanotubes by Pulsed Wire Discharge
- Extinction of Large Droplets in Ion-Beam Ablation Plasma Produced by Ion-Beam Evaporation
- Preparation of SrAl_2O_4:Eu, Dy Phosphor Thin Films on Organic Substrates by Pulsed Ion-Beam Evaporation
- Particle Size Distribution of Copper Nanosized Powders Prepared by Pulsed Wire Discharge
- Preparation of Ti-Fe Hydrogen Storage Alloy Thin Films by Pulsed Laser Deposition
- Oxidation Resistance of Cr-N-O Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
- パルスパワー技術を用いた薄膜と超微粒子の作製
- SIサイリスタを用いた高繰り返しパルスパワー電源の開発
- オーバラップ型z-放電プラズマチャネルを用いた大強度パルス陽子ビームの伝播
- 1997年米国物理学会プラズマ部門年会
- Characterization of Pulsed High-Current Generator for Extreme Ultraviolet Generation
- Pulsed High-Current Generator for EUV Source Development
- Enhanced Energy Deposition of Protons in Aluminium Targets
- パルスイオンビーム蒸着法によるSi_Ge_x固溶体薄膜の作製
- 長岡技科大における高収束イオンビーム発生実験
- SOSを用いた小型繰返しパルスパワー発生装置の開発
- 仮想陰極発振器の動特性評価と最適化
- Preparation and Evaluation of Aligned Naphthacene Thin Films Using Surface Plasmon Excitation(Evaluation of Organic Materials,Towards the Realization of Organic Molecular Electronics)
- Preparation and Evaluation of Aligned Naphthacene Thin Films Using Surface Plasmon Excitation(Fabrication of organic materials)
- Preparation and Evaluation of Aligned Naphthacene Thin Films Using Surface Plasmon Excitation
- 25p-A-10 ポイントピンチダイオードのイオンビーム及びアノードプラズマの評価
- 29p-ZA-10 ポイントピンチダイオードの陽極プラズマ計測
- 31p-Z-1 強磁界中の放射損失割合
- 5a-NT-12 衝突周波数に及ぼす磁界効果
- NO_x Treatment Using Inductive-Energy-Storage Pulsed Power Generator
- パラメトリック不安定性によるプラズマ加熱
- パルスイオンビーム蒸着法によるSi基板上のビアホールへのW埋込み
- 三次元収束型プラズマ・フォーカス・ダイオードにおけるイオンビームの動特性評価
- 29a-R-5 三次元収束型SPFDにおけるイオンビーム計測II
- 30p-YX-11 三次元収束型SPFDにおけるイオンビーム計測
- 高効率仮想陰極発振器の開発と特性評価