4. アブレーションプラズマ生成・制御2(イオンビーム) (<小特集>アブレーションプラズマのプロセス応用)
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概要
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High temperature, high density ablation plasma can be generated by irradiation with an intense pulsed ion beam of a solid target surface. This ablation plasma is useful for various applications in material sciences, particulaly in thin-film deposition. In this paper, the processes of target ablation, plasma expansion, and thin-film deposition were studied in order to understand the behaviors of the ablation plasma generated by a pulsed ion beam.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 2000-11-25
著者
-
八井 浄
長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター
-
八井 浄
長岡技術科学大学 極限エネルギー密度工学研究センター
-
江 偉華
長岡技術科学大学
-
偉華 江
長岡技術科学大学電気系 同粒子ビーム工学センター
-
Yatsui K
Technological Univ. Nagaoka Nagaoka Jpn
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