Ar-10vol%O_2中で成膜した下地層と純Ar中で成膜した上層よりなる二層銅膜とSiO_2基板界面の微細構造
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概要
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- 2012-01-01
著者
-
河合 晃
長岡技術科学大学工学部電気系
-
Kawai A
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo
-
河合 晃
長岡技科大・工
-
河合 晃
長岡技術科学大学工学部
-
森 曉
三菱マテリアル(株)中央研究所
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