SiC表面分解法を利用した絶縁基板上へのグラフェン形成に関する研究
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概要
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- 2011-07-10
著者
-
碇 智徳
宇部工業高等専門学校
-
内藤 正路
九州工業大学大学院工学研究院
-
中尾 基
九州工業大学大学院工学研究院
-
大久保 雄平
九州工業大学大学院工学研究院
-
北田 祐介
九州工業大学大学院工学研究院
-
佐々木 悠祐
九州工業大学大学院工学研究院
-
中尾 基
九州工業大学大学院工学研究
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