Preparation of carbonaceous thin films by plasma-assisted chemical vapor deposition using active fluorine atoms
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概要
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- 2007-11-15
著者
-
安部 武志
京都大学大学院工学研究科
-
小久見 善八
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
-
FUKUTSUKA Tomokazu
Graduate School of Engineering, University of Hyogo
-
MATSUO Yoshiaki
Graduate School of Engineering, University of Hyogo
-
SUGIE Yosohiro
Graduate School of Engineering, University of Hyogo
-
ABE Takeshi
Graduate School of Engineering, Kyoto University
-
OGUMI Zempachi
Graduate School of Engineering, Kyoto University
-
Fukutsuka T
Graduate School Of Human And Environmental Studies Department Of Interdisciplinary Environment Unive
-
Fukutsuka Tomokazu
Graduate School Of Engineering Himeji Institute Of Technology
-
Fukutsuka Tomokazu
Department Of Energy And Hydrocarbon Chemistry Graduate School Of Engineering Kyoto University
-
小久見 善八
Graduate School Of Engineering Kyoto University
-
Sugie Yosohiro
Graduate School Of Engineering Department Of Materials Science And Chemistry University Of Hyogo
-
Ogumi Zempachi
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
-
Ogumi Zempachi
Department Of Energy And Hydrocarbon Chemistry Graduate School Of Engineering Kyoto University
-
Ogumi Zempachi
Department Of Energy & Hydrocarbon Chemistry Graduate School Of Engineering Kyoto University
-
Sugie Y
Faculty Of Engineering Himeji Institute Of Technology
-
Matsuo Yoshiaki
Graduate School Of Engineering Department Of Materials Science And Chemistry University Of Hyogo
-
Matsuo Y
Univ. Hyogo Hyogo Jpn
-
小久見 善人
京都大学産官学連携本部
-
Fukunaga Takahiro
Graduate School Of Engineering Kyoto University
-
Abe Takeshi
Department Of Energy And Hydrocarbon Chemistry Graduate School Of Engineering Kyoto University
-
Abe Takeshi
Graduate School Of Engineering Kyoto University
-
Abe Takeshi
Department Of Energy & Hydrocarbon Chemistry Graduate School Of Engineering Kyoto University
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