Preparation of carbonaceous thin films by plasma-assisted chemical vapor deposition using active fluorine atoms (特集 気相から生成した炭素材料)
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概要
著者
-
安部 武志
京都大学大学院工学研究科
-
Sugie Y
Faculty Of Engineering Himeji Institute Of Technology
-
Matsuo Yoshiaki
Graduate School Of Engineering Department Of Materials Science And Chemistry University Of Hyogo
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