PLD法により作製したAlN薄膜とα-Al_2O_3基板の界面構造
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概要
- 論文の詳細を見る
- 2005-12-20
著者
-
山本 剛久
東京大学大学院 新領域創成科学研究科物質系専攻
-
佐藤 幸生
東京大学大学院新領域創成科学研究科
-
柴田 直哉
東京大学大学院工学系研究科総合研究機構
-
徳本 有紀
東京大学大学院新領域創成科学研究科
-
柴田 直哉
東京大学
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